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　　OLED的發光層是一層薄薄的膜，需要選擇基板來作為沉積的基底。最常用的是玻璃，由于發光層產生的光透過基板發射，這要求基板具有較高的透明性，這種玻璃基板上需要先搭配電極，一般搭配陽極。

　　先來看看被動式的OLED的工藝流程

　　電極部分這樣圖案化

　　首先，對購買的ITO基板進行電極的圖案化，ITO作為陽極嗎，與之后沉積的陰極形成“圍棋盤”的形狀，電壓施加在它們的交叉部分，這通過將ITO薄膜不需要的部分去除來實現，這樣的過程稱為圖案化。看下圖：

　　形成ITO電極圖案，為了在圖案化ITO的表面露出發光的部分，需要制備絕緣層，一般采用光刻膠的高分子材料作為絕緣薄膜，最后，由于基板上可能會有殘留的光刻膠或者空氣中的灰塵、水汽因此需要對基板進行清洗處理。

　　首先，通過濕法清洗，最后通過干洗清洗。

　　干洗清洗是指對ITO表面進行UV臭氧處理，或者氧離子處理，表面清理結束后，接著在ITO薄膜上沉積各種有機功能薄膜。

　　什么是表面清洗？

　　表面清洗，字面上的意思就是簡單的清洗。清洗處理相當花費時間，灰塵、濕氣是對器件最不利的影響因素。無論是半導體工藝還是OLED、LCD，清洗工藝都是非常重要的。

　　小分子材料的真空蒸鍍

　　在薄膜制備階段，采用小分子或者高分子的有機材料的過程是不一樣的，小分子材料器件采用多層構造，通過真空蒸鍍的方法形成注入層/發光層等薄膜。而高分子材料采用的則是單層構造。

　　首先，在真空腔體的基板座上把已經團花的ITO基板放好，然后，把準備好的小分子材料放入坩堝內開始抽真空，通過對坩堝高溫加熱，使材料開始汽化，并附著在放置好的ITO基板表面。

　　各層薄膜的形成順序：

　　高分子材料的旋涂法成膜

　　利用高分子材料來制備OLED器件時，往往不是多層結構，一般采用單層結構或者是兩層結構，高分子的發光層沉積與小分子的多層膜的成膜過程不同，由于只要制作一層高分子膜，所以工藝上會便利不少，高分子材料成膜的時候，在ITO上面迅速滴落發光層，不需要真空和高溫，這樣形成的液膜干燥后通過掩膜板在必要的部分真空蒸鍍形成電極。

　　電極怎么形成？

　　各種有機層成膜以后最后鍍上陰極，材料一般使用AI等金屬，制備工藝多種多樣。